光致 / 电致发光成像与 I-V 综合检测解决方案
覆盖硅片至成品片全流程的 PL/EL/I-V 综合检测系统
光致发光 + 电致发光双模式 · 微裂纹/位错/断栅识别
光致发光(PL) + 电致发光(EL)双模式
微裂纹 / 位错 / 断栅
EL: 1s/片,PL: 5s/片
10 μm
晶硅电池片 / 组件
缺陷分布热力图 + 分类报告
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